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密閉制藥化工用制冷加熱循環器 tcu溫控系統

簡要(yao)描述:【無錫冠(guan)亞(ya)】密閉制(zhi)藥(yao)化工用(yong)制(zhi)冷加(jia)熱(re)循(xun)環器(qi) tcu溫(wen)(wen)控(kong)(kong)系(xi)統(tong),應用(yong)于對(dui)玻璃反應釜(fu)、金(jin)屬反應釜(fu)、生物反應器(qi)進行升降溫(wen)(wen)、恒溫(wen)(wen)控(kong)(kong)制(zhi),尤其適(shi)合在反應過程中有需熱(re)、放熱(re)過程控(kong)(kong)制(zhi)。解決化學(xue)醫(yi)藥(yao)工業用(yong)準確控(kong)(kong)溫(wen)(wen)的特殊裝置,用(yong)以滿(man)足間歇反應器(qi)溫(wen)(wen)度(du)控(kong)(kong)制(zhi)或持續不斷(duan)的工藝進程的加(jia)熱(re)及冷卻、恒溫(wen)(wen)系(xi)統(tong)。

  • 產品型號:SUNDI-135
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間(jian):2024-01-10
  • 訪  問  量:458
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞價格區間10萬-20萬
產地類別國產應用領域化工,生物產業,石油,制藥,綜合


無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源(yuan)動態恒溫控(kong)制、雙層玻璃反應釜冷熱源(yuan)動態恒溫控(kong)制、

雙層反(fan)應(ying)釜(fu)冷(leng)熱源動(dong)態恒溫控制、微通道反(fan)應(ying)器冷(leng)熱源恒溫控制;

小型恒溫(wen)(wen)控制系統、蒸飽系統控溫(wen)(wen)、材料低溫(wen)(wen)高溫(wen)(wen)老化(hua)測試、

組合化學冷(leng)源熱源恒(heng)溫(wen)控制(zhi)、半(ban)導體設備冷(leng)卻(que)加熱、真空室制(zhi)冷(leng)加熱恒(heng)溫(wen)控制(zhi)


型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統

前(qian)饋(kui)PID ,無模型自建樹算法,PLC控(kong)制器

溫控模式選擇

物(wu)料溫度控(kong)制與設備(bei)出口溫度控(kong)制模式(shi) 可自由選(xuan)擇

溫差控制

設備出口溫度(du)與反應物料(liao)溫度(du)的溫差可控(kong)制(zhi)、可設定

程序編輯

可(ke)編(bian)(bian)制(zhi)5條(tiao)程序,每條(tiao)程序可(ke)編(bian)(bian)制(zhi)40段步驟

通信協議

MODBUS RTU 協議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信(xin)給定(默認PT100)

溫度反饋

設備(bei)導熱介質 溫度、出口溫度、反應器(qi)(qi)物(wu)料溫度(外接溫度傳感器(qi)(qi))三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生(sheng)谷輪(lun)/丹佛(fo)斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹(dan)佛斯/艾默生熱力膨脹閥(fa)

蒸發器

丹佛斯(si)/高力板式換熱(re)器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記(ji)錄

安全防護

具(ju)有(you)自我診斷功能(neng);冷凍機過載保護(hu);高壓(ya)壓(ya)力(li)開關,過載繼電器、熱保護(hu)裝置等多種(zhong)安全保障功能(neng)。

密閉循環系統

整個系統為(wei)全(quan)密閉(bi)系統,高溫(wen)時不(bu)會有(you)油霧(wu)、低溫(wen)不(bu)吸(xi)收空氣中(zhong)水份,系統在運行中(zhong)不(bu)會因為(wei)高溫(wen)使壓力(li)上升,低溫(wen)自動補充(chong)導熱(re)介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(cun)(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/





密閉制藥化工用制冷加熱循環器 tcu溫控系統

密閉制藥化工用制冷加熱循環器 tcu溫控系統


  在蒸(zheng)餾過(guo)程中(zhong),加熱和冷(leng)卻的效率直接(jie)影響到實驗的效果。過(guo)熱或過(guo)冷(leng)都可能導致實驗失(shi)敗,甚至(zhi)引發問(wen)題。因此,選(xuan)擇一款穩定的實驗室密閉(bi)高低溫循環裝(zhuang)置至(zhi)關重要(yao)。

  二、實(shi)驗室密(mi)閉高低(di)溫循(xun)環(huan)裝置(zhi)在蒸(zheng)餾反應中(zhong)的應用(yong)

  在蒸餾反應中,實驗室密閉高低(di)溫循環裝置可以通過(guo)自動調節溫度,確保(bao)(bao)實驗在條件下進行。無論(lun)是在加熱還是冷(leng)卻階段(duan),都(dou)能保(bao)(bao)證溫度的穩定性(xing)和準確性(xing)。

  通過(guo)使用實驗室密閉高(gao)低溫循環裝(zhuang)置,蒸餾過(guo)程可(ke)以更快(kuai)、更有效(xiao)地完成(cheng)。這對(dui)于(yu)工業生產具有重要意義,可(ke)以提高(gao)產量,降(jiang)低能源(yuan)消耗。

  使(shi)用實驗室(shi)密閉高低溫循環裝(zhuang)置可以減少實驗過程中可能出現的問題。系統能夠自動(dong)檢測異常(chang)溫度,并及時采取保護措施,如自動(dong)關閉加熱或冷(leng)(leng)卻功能,以防止過熱或過冷(leng)(leng)。

在(zai)選(xuan)擇(ze)實(shi)驗室密閉高低(di)溫循環裝置時,選(xuan)擇(ze)經過(guo)嚴(yan)格(ge)測試和驗證的(de)系統,以確保其在(zai)各種條件(jian)下的(de)穩定工作。根(gen)據實(shi)際需(xu)要,選(xuan)擇(ze)適合的(de)溫度(du)范圍。




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