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分析裝置制冷機 Chiller半導體溫控機

簡要描(miao)述:【無錫冠亞】半(ban)導(dao)體(ti)控溫(wen)解決(jue)方案主(zhu)要產(chan)品(pin)包括半(ban)導(dao)體(ti)專?溫(wen)控設備(bei)、射流式?低(di)溫(wen)沖擊測試機(ji)和半(ban)導(dao)體(ti)??藝廢?處理(li)裝(zhuang)置(zhi)等?設備(bei),?泛(fan)應?于(yu)半(ban)導(dao)體(ti)、LED、LCD、太(tai)陽能光伏(fu)等領域。分(fen)析(xi)裝(zhuang)置(zhi)制冷(leng)機(ji) Chiller半(ban)導(dao)體(ti)溫(wen)控機(ji)

  • 產(chan)品型(xing)號(hao):LTS-202
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間(jian):2024-01-11
  • 訪(fang)  問  量:595
詳情介紹
品牌冠亞制冷冷卻方式水冷式
價格區間10萬-50萬產地類別國產
儀器種類一體式應用領域化工,生物產業,電子,制藥,汽車



無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司的半導體控溫解決方案

主要產(chan)品包括(kuo)半導體專?溫控設備(bei)、射流式(shi)?低溫沖擊測試機(ji)和半導體??藝廢?處理裝置等?設備(bei),

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【 冠亞制冷 】半導體行業主營控溫產品:

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數據中心液冷解決(jue)方案


型號FLT-002FLT-003FLT-004FLT-006FLT-008FLT-010FLT-015
FLT-002WFLT-003WFLT-004WFLT-006WFLT-008WFLT-010WFLT-015W
溫度范圍5℃~40℃
控溫精度±0.1℃
流量控制  10~25L/min  5bar max15~45L/min  6bar max25~75L/min  6bar max
制冷量at10℃6kw8kw10kw15 kw20kw25kw40kw
內循環液容積4L5L6L8L10L12L20L
膨脹罐容積10L10L15L15L20L25L35L
制冷劑R410A
載冷劑硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等  (DI溫度需要控制10℃以上)
進出接口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG3/4ZG3/4ZG1ZG1
冷卻水口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG1ZG1ZG1ZG1 1/8
冷卻水流量at20℃1.5m3/h2m3/h2.5m3/h4m3/h4.5m3/h5.6m3/h9m3/h
電源380V3.5kW4kW5.5kW7kW9.5kW12kW16kW
溫度擴展通過增加電加熱器,擴展-25℃~80℃





分析裝置制冷機 Chiller半導體溫控機

分析裝置制冷機 Chiller半導體溫控機


   半導體(ti)液(ye)冷器(qi)Chiller在(zai)運行(xing)過程中會產生(sheng)一定(ding)的噪音,這可(ke)能對工作環境和人員舒適度產生(sheng)影響。因此(ci),在(zai)選擇半(ban)導體液冷器Chiller時(shi),應(ying)考慮其(qi)噪(zao)音水平(ping)并確保其(qi)符(fu)合工作場所的規(gui)定。一些半導(dao)體液冷器(qi)Chiller設計采用靜(jing)音(yin)風(feng)扇或低速運轉的風(feng)扇,以降低噪音(yin)。

  3、可(ke)靠(kao)性(xing)(xing):可(ke)靠(kao)性(xing)(xing)是評估半導體液冷器Chiller性能的因素,因為故障都可(ke)(ke)能導(dao)致(zhi)生產中斷或設備(bei)損壞。高可(ke)(ke)靠性水冷機通常采用適合(he)的(de)材料和(he)設計,并經過嚴格的(de)測試和(he)驗證。此外,對(dui)半導體液冷器(qi)Chiller的維護和檢查也(ye)重要,以確保其正(zheng)常運行和及時發(fa)現潛在問題。

  4、維護要求:半(ban)導體液冷器(qi)Chiller的維護要求(qiu)也是評估其(qi)性(xing)能的因素。一(yi)些半導體液冷器Chiller設計(ji)具有(you)較低的(de)(de)維護(hu)要求(qiu),例如(ru)無需(xu)經常更換(huan)的(de)(de)部(bu)件或易于清潔的(de)(de)內部(bu)結構(gou)應考慮其(qi)維(wei)護要求并選(xuan)擇具有(you)低維(wei)護成本(ben)的設備。

  總之,在評(ping)估(gu)半導體(ti)液冷器Chiller的性能時,通過(guo)選擇(ze)適合工作需求的適合水冷機,可以(yi)確保半導體(ti)設備的(de)正(zheng)常運行并提(ti)高整體(ti)性(xing)能(neng)。




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