簡要描述:【無(wu)錫冠亞】半(ban)(ban)導體晶(jing)圓冷(leng)卻裝置 硅片循環(huan)水(shui)冷(leng)卻機(ji) ,冠亞制冷(leng)的半(ban)(ban)導體控(kong)溫(wen)chiller主要應用(yong)與(yu)半(ban)(ban)導體生產(chan)過程中及測試環(huan)節的溫(wen)度(du)精準(zhun)控(kong)制,40℃以內加(jia)(jia)熱(re)方(fang)式采用(yong)壓縮機(ji)熱(re)氣加(jia)(jia)熱(re),半(ban)(ban)導體控(kong)溫(wen)chiller循環(huan)系統采用(yong)全密閉設計、循環(huan)泵(beng)采用(yong)磁(ci)力驅動泵(beng),經過24小時連續(xu)運行拷機(ji)。
品牌 | 冠亞制冷 | 價格區間 | 10萬-20萬 |
---|---|---|---|
產地類別 | 國產 | 應用領域 | 化工,生物產業,石油,制藥,綜合 |
在半導(dao)體生產過(guo)程中,晶圓(yuan)冷卻系統(tong)不僅(jin)直接(jie)影響晶圓(yuan)的(de)制造(zao)質量(liang),還關系到設備的(de)穩定性和(he)使(shi)用壽(shou)命。因(yin)(yin)此,在選擇晶圓(yuan)冷卻系統(tong)時,須綜合考慮多(duo)種因(yin)(yin)素,確保系統(tong)的(de)性能和(he)可靠(kao)性達到需要狀(zhuang)態。
冷(leng)卻(que)介(jie)(jie)(jie)質的(de)(de)選擇是晶圓(yuan)冷(leng)卻(que)系統的(de)(de)核心問題(ti)。常(chang)用(yong)的(de)(de)冷(leng)卻(que)介(jie)(jie)(jie)質包括去離子水(shui)(shui)、氦(hai)氣(qi)和(he)(he)制(zhi)冷(leng)油(you)等。去離子水(shui)(shui)因其(qi)低離子含量和(he)(he)高(gao)熱導率的(de)(de)特(te)點而(er)被廣(guang)泛應用(yong)。然而(er),其(qi)他(ta)制(zhi)冷(leng)劑如氦(hai)氣(qi)和(he)(he)制(zhi)冷(leng)油(you)雖然性能不(bu)錯,但由于(yu)成(cheng)(cheng)本(ben)較(jiao)高(gao)和(he)(he)安(an)全性問題(ti),使用(yong)較(jiao)少(shao)。在選擇冷(leng)卻(que)介(jie)(jie)(jie)質時,需要(yao)充分考慮其(qi)導熱性能、成(cheng)(cheng)本(ben)、安(an)全性以及與其(qi)他(ta)系統的(de)(de)兼(jian)容性。
其次(ci),傳(chuan)(chuan)熱方(fang)式(shi)的(de)(de)(de)選擇(ze)也是晶(jing)圓冷(leng)卻(que)系統的(de)(de)(de)重要(yao)考慮因素。晶(jing)圓和冷(leng)卻(que)介質(zhi)之間的(de)(de)(de)傳(chuan)(chuan)熱方(fang)式(shi)主要(yao)包括對流(liu)、輻射(she)和傳(chuan)(chuan)導。對流(liu)方(fang)式(shi)傳(chuan)(chuan)熱效(xiao)率(lv)較高(gao),適(shi)用于(yu)傳(chuan)(chuan)熱面(mian)積較大的(de)(de)(de)晶(jing)圓;輻射(she)方(fang)式(shi)傳(chuan)(chuan)熱效(xiao)率(lv)低,但在高(gao)溫條(tiao)件(jian)下(xia)表現(xian)良好(hao);傳(chuan)(chuan)導方(fang)式(shi)傳(chuan)(chuan)熱效(xiao)率(lv)適(shi)中,但容易產生熱點和影響(xiang)制造質(zhi)量(liang)。因此(ci),在選擇(ze)傳(chuan)(chuan)熱方(fang)式(shi)時,需(xu)要(yao)根(gen)據晶(jing)圓的(de)(de)(de)實(shi)際(ji)情況和生產需(xu)求進(jin)行權(quan)衡。
此外,晶(jing)圓冷卻系統的(de)(de)(de)(de)設(she)(she)備(bei)選型和(he)安裝(zhuang)也是需要注意的(de)(de)(de)(de)問題。冷卻設(she)(she)備(bei)應根據(ju)工藝需求選擇,具備(bei)良好的(de)(de)(de)(de)散熱能力(li)和(he)穩定(ding)性。設(she)(she)備(bei)的(de)(de)(de)(de)安裝(zhuang)應符合(he)相關規范和(he)要求,保證設(she)(she)備(bei)的(de)(de)(de)(de)穩定(ding)性和(he)安全性。同時(shi),冷卻設(she)(she)備(bei)的(de)(de)(de)(de)安裝(zhuang)位置(zhi)應滿(man)足操作和(he)維護(hu)的(de)(de)(de)(de)需要,并與其(qi)他(ta)設(she)(she)備(bei)和(he)管道保持合(he)理的(de)(de)(de)(de)間距(ju)。
在晶圓(yuan)冷卻系(xi)統(tong)(tong)的(de)使用(yong)過程中,系(xi)統(tong)(tong)應安裝有溫度、壓力、流量(liang)等相關傳感器(qi),用(yong)于監(jian)測系(xi)統(tong)(tong)的(de)運行狀態。冷卻水的(de)質量(liang)應定期進行檢(jian)測和分析,確(que)保水質符合(he)要求,避免(mian)雜質對系(xi)統(tong)(tong)的(de)影(ying)響(xiang)。此外(wai),冷卻系(xi)統(tong)(tong)的(de)定期維護和清潔也是不(bu)可少的(de),可以有效延長系(xi)統(tong)(tong)的(de)使用(yong)壽命和提高(gao)性能。
在(zai)設(she)計和(he)安(an)裝過程中(zhong),應嚴格遵守相關(guan)規定,確保施(shi)工人員的(de)(de)人身(shen)安(an)全(quan)和(he)設(she)備(bei)的(de)(de)安(an)全(quan)運行。同時,對于使用制冷(leng)劑(ji)的(de)(de)冷(leng)卻系(xi)統,還需要特別注意制冷(leng)劑(ji)的(de)(de)泄漏和(he)爆炸等安(an)全(quan)隱患。
綜(zong)(zong)上所述,晶圓(yuan)冷卻系統的(de)(de)選擇需要考慮(lv)多方面因素,只有在綜(zong)(zong)合考慮(lv)這些因素的(de)(de)基礎上,才能選擇出性能可靠、易于維護的(de)(de)晶圓(yuan)冷卻系統。
半導體晶圓冷卻裝置 硅片循環水冷卻機
半導體晶圓冷卻裝置 硅片循環水冷卻機